杭州光研申请晶圆定位和缺陷检测专利,兼顾缺陷检测准确率和检测效率

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杭州光研申请晶圆定位和缺陷检测专利,兼顾缺陷检测准确率和检测效率
发布日期:2025-05-23 06:30    点击次数:138

金融界2025年5月7日消息,国家知识产权局信息显示,杭州光研科技有限公司申请一项名为“一种晶圆定位和缺陷检测方法、设备及介质”的专利,公开号CN119915735A,申请日期为2025年3月。

专利摘要显示,本发明公开一种晶圆定位和缺陷检测方法,涉及晶圆缺陷检测领域。现有检测方法存在无法同时兼顾缺陷检测准确率和时间成本的问题。本发明的检测方法包括:扫描并记录待检测晶圆位置,按位置取出晶圆,进行偏心修正和角度定位后开展一级缺陷检测并记录缺陷信息;若需高倍率复检,针对缺陷位置在第一、二检测面及晶圆表面成像分析并更新信息;检测完成后将晶圆存放至指定位置。扫描和存放有多种模式,检测可通过计算机程序自动执行。还对晶圆表面建模分区,划分二维区域标记记录检测结果。本发明结合一级检测与高倍率复检,兼顾缺陷检测准确率和检测效率,可自动化检测,适配生产线,通过多种定位方式确保检测准确一致。

天眼查资料显示,杭州光研科技有限公司,成立于2022年,位于杭州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1129.0322万人民币。通过天眼查大数据分析,杭州光研科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目13次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息16条,此外企业还拥有行政许可1个。

本文源自:金融界

作者:情报员



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